Das Halbleiterschutzgesetz bietet die Möglichkeit, die Topographie
von Halbleiterbauelementen, insbesondere das sogenannte mask-work,
zu schützen. Der Schutz ist beim Deutschen Patent- und Markenamt
zu beantragen. Die Laufzeit beträgt höchstens zehn Jahre.
PROFIL
Patente und 